株洲瓶装纯净水设备厂 饮用纯净水设备

纯净水设备、高纯水设备和**纯水设备的技术参数 
产水量 
根据需求订制（0.5-300吨/时） 
原水源 
自来水或地下水（电导率小于400us/cm） 
产水水质 
电导率小于0.056us/cm(电阻率≥18MΩ/cm) 
设备功率 
5KW-800KW 
运行状态 
自动运行、定时反洗 
反洗频率 
随进水水质而变化（1～3天） 
化学清洗 
随膜材质及膜污染情况而定 
产品特点 
人机对话、运行稳定、水质可靠 
进水要求： 
   以下是保证 EDI 正常运行的条件。为了使系统运行效果更佳，系统设计时应适当提高这些条件。 
   ★给水：RO 纯水，一般水的电导率为 4-30us/cm。 
   ★PH：5.0-8.0(在此 PH 条件下，水硬度不能太高) 
   ★温度：5-35℃ 
   ★进水压力：为 4kg/cm2(60psi)，小为 1.5kg/cm2(25psi)。 
   注意：组件压力损失取决于流量和水温。 
   EDI 组件标准配置： 
   ★出水压力：浓水和电极水的出口压力必须低于产品的出口压力。 
   ★硬度（以 CaCO3 计）：为 1.0ppm，建议采用 0.1ppm。 
   ★**物：为 0.05ppm (TOC)。 
   ★氧化剂：为 0.05ppm（CL2），0.02ppm（03）建议两者都没有。 
   ★变价金属：为 0.01 ppm (Fe)。 
   ★二氧化硅：50-150ppb。 
   ★二氧化碳 CO2 的总量：二氧化碳含量和 PH 值将明显影响产品水电阻率。在大于10ppm 时，一般应在 EDI 设备前安装脱气装置。

高纯水设备、**纯水设备、纯净水设备原理
   电去离子(EDI)系统主要是在直流电场的作用下，通过隔板的水中电介质离子发生定向移动，利用交换膜对离子的选择透过作用来对水质进行提纯的一种科学的水处理技术。电渗析器的一对电极之间，通常由阴膜，阳膜和隔板(甲、乙)多组交替排列，构成浓室和淡室(即阳离子可透过阳膜,阴离子可透过阴膜)。淡室水中阳离子向负极迁移透过阳膜,被浓室中的阴膜截留;水中阴离子向正极方向迁移阴膜,被浓室中的阳膜截留，这样通过淡室的水中离子数逐渐减少，成为淡水，而浓室的水中，由于浓室的阴阳离子不断涌进，电介质离子浓度不断升高，而成为浓水，从而达到淡化、提纯、浓缩或精制的目的。

饮用纯净水设备、反渗透设备的优点：
1、反渗透是在室温条件下，采用无相变的物理方法使水得以淡化、纯化。
2、水的处理仅依高压泵压力作为推动力，其能耗在许多处理方法中。
3、不用大量的化学药剂和酸、碱再生处理。
4、无化学废液及废酸、碱排放、无废酸、碱的中和处理过程，无环境污染。
5、系统简单，操作方便，产品水质稳定，可以取得较高的纯水。
6、适用于较大范围的原水水质，既适用于苦咸水、海水及污水的处理，又适用于低含盐量的淡水处理。
7、设备占地面积小，需要的空间少；运行维护和设备维修量较低

纯净水设备、高纯水设备、反渗透设备的优点 
1、占地空间小，省略了混床和再生装置。 
2、产水连续稳定，出水质量高，而混床在树脂临近失效时水质会变差。 
3、运行费用低，再生只耗电，不用酸碱，节省材料费用。 
4、环保效益显著，增加了操作的安全性。 
5、不需要酸碱化学试剂来再生(绿色环保)。 
6、与同类进口产品比，能耗下降30%左右，节约运行费用。 
7、EDI在线再生，*加盐系统。 
8、出水水质稳定一致。 
9、容易实现整体式的膜块排列。 
10、重量轻，结构紧凑。
纯净水设备、高纯水设备的应用领域 
      1、电厂化学水处理；
      2、电子、半导体、精密机械行业**纯水； 
      3、制药工业工艺用水； 
      4、精细化工、精尖学科用水； 
      5、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水； 
      6、半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗； 
      7、其他行业所需的**纯水制备。